Çin, İlk EUV Makinesi Prototipinin Üretiminde Tarihi Bir Başarıya İmza Attı!

Çin, yarı iletken üretiminde kritik öneme sahip olan aşırı ultraviyole (EUV) litografi teknolojisinde dikkat çekici bir ilerleme kaydetti. Reuters’ın aktardığı bilgilere göre ülke, tamamen yerli imkânlarla geliştirilen ilk EUV litografi prototipini başarıyla tamamladı. Söz konusu prototipin bazı bölümlerinde eski ASML ekipmanlarından alınan bileşenlerin kullanıldığı, ancak sistemin bağımsız şekilde çalışabildiği bildiriliyor.

Teknolojik Bağımsızlık Hedefinde Stratejik Gelişme

Uzun süredir gelişmiş yonga üretimi alanında dışa bağımlılığı azaltmayı hedefleyen Çin, bu kapsamda EUV teknolojisine yönelik yoğun Ar-Ge çalışmaları yürütüyordu. SMIC gibi yerli üreticiler, tersine mühendislik yöntemiyle teknolojik bariyerleri aşmaya çalışırken, aynı zamanda sektördeki uzmanları bünyelerine katmayı sürdürdü. Kaynaklara göre geliştirilen yeni prototip, wafer işleme için gerekli ultraviyole ışık üretimini gerçekleştirebiliyor. Ancak, sistemin halen Batılı tedarikçilerin ürettiği ileri düzey optik bileşenlere kısmen bağımlı olduğu ifade ediliyor.

Teknik açıdan çeşitli zorlukların devam etmesine rağmen, Çin’in bu seviyedeki bir teknolojik ilerlemeye beklenenden kısa sürede ulaşmış olması, küresel yarı iletken endüstrisinde dikkat çekici bir gelişme olarak değerlendiriliyor. Buna karşın uzmanlar, EUV sistemlerinin tam ticarileşmesi için ülkenin hâlâ önünde çözülmesi gereken karmaşık mühendislik süreçleri bulunduğunu ifade ediyor.

2030’a Kadar Seri Üretim Hedefi

ASML’nin üst yöneticisi Christophe Fouquet, kısa bir süre önce yaptığı açıklamada Çin’in EUV teknolojisini bağımsız olarak geliştirmesinin uzun yıllar alacağını öngörmüştü. Ancak mevcut prototip, bu sürecin daha erken tamamlanabileceğine işaret ediyor. Henüz doğrudan üretime hazır olmasa da kaynaklar, Çin’in 2030 yılı civarında EUV teknolojisini sanayi ölçeğinde kullanabilir hale gelmesini bekliyor. Bu, ülkenin yarı iletken alanında ABD ile arasındaki farkı kapatma sürecinde önemli bir dönüm noktasına işaret ediyor.

Yapay zekâ temelli uygulamaların hızla yaygınlaşması, Çin’de yüksek performanslı çiplere olan talebi artırmış durumda. Huawei ve SMIC gibi firmalar, üretim kapasitelerini artırmak ve mevcut altyapı kısıtlamalarını aşmak amacıyla ortak projelere yöneliyor. Şirketlerin bu stratejik hamleleri, ülkenin N+3 üretim süreci ve gelişmiş çip üretim teknolojileri üzerindeki çalışmalarını da hızlandırıyor.

Her ne kadar ayrıntılar henüz sınırlı olsa da, yerli EUV prototipinin geliştirilmesi Çin’in yarı iletken sektöründe teknolojik egemenliğe bir adım daha yaklaştığını gösteriyor. Önümüzdeki yıllarda yapılacak doğrulama testleri ve mühendislik iyileştirmeleri, bu teknolojinin küresel üretim zincirine entegre edilip edilemeyeceğini belirleyecek.